全站搜索

新闻动态
news information

制冷加热控温系统的优势

行业新闻 4020

无锡冠亚专注研发定制生产制冷加热控温系统,全密闭,非标定制。温度范围:-120℃~350℃、温控精度:±0.5℃、制冷功率:0.5kw~1200kw

控温系统结构设计原理和功能优势

高温时没有导热介质蒸发出来,而且不需要加压的情况下就可以实现 -80~190℃、-70~220℃、-88~170℃、-55~250℃、-30~300℃连续控温;

采用全密闭管道式设计,降低导热液需求量的同时,提高系统的热量利用率,达到快速升降温度。 膨胀容器中的导热介质不参与循环,可以降低导热介质在运行中吸收水分和挥发的风险;

应用场景:

高压反应釜、双层玻璃反应釜、双层反应釜、微通道反应器、蒸馏结晶、半导体设备冷却、材料老化、结晶系统控温。

控温原理:

改变控制设定值方法,能够尽快的响应过程中的系统滞后,得到较小的系统过冲,控制由两组PID控制回路构成,这两组控制回路称为:主回路和从回路,主回路的控制输出作为从回路的设定值,通过对温度的变化梯度控制,保证控温精度。

专门设计的滞后预估器产生一个代替过程变量的动态信号来作为反馈信号,对控制器产生一个信号,使控制器预判控制作用没有大的滞后。

通过三点采样(材料温度点、温控系统出口温度,温控系统进口温度)通过公司自创无模型自建树算法和一般抗滞后穿、串级算法相结合。

不同型号包括外形尺寸、隔爆尺寸、正压尺寸不同,根据客户具体工况选择合适的设备型号。

总结

以上就是对SUNDI -25℃~200℃产品的介绍,如有设备需求可与我们联系。

全国咨询热线:400-1003-163/400-1003-173

 

 

上一篇: 下一篇:

相关推荐

  • 半导体晶片温度控制中制冷原理说明

    425

    半导体晶片温度控制是目前针对半导体行业所推出的控温设备,无锡冠亚半导体晶片温度控制采用全密闭循环系统进行制冷加热,制冷加热的温度不同,型号也是不同,同时,在选择的时候,也需要注意制冷原理。半导体晶片温度控制制冷系统运行中是使用某种工质的状态转变,...

    查看全文
  • 防爆高低温一体机批发分析其使用注意点

    425

    由于不同的防爆高低温一体机在运行上虽然大同小异,但是防爆高低温一体机批发提醒,具体的还是有点区别的,无锡冠亚防爆高低温一体机在使用上面需要根据具体的设备型号进行操作,那么防爆高低温一体机有什么注意点呢?防爆高低温一体机开、停机要确保启动后能正常运...

    查看全文
  • 高低温一体机制冷剂的选择

    457

    高低温一体机制冷剂有很多种,按照制冷剂的组成成分有单一制冷剂和混合制冷剂。按制冷剂物质的化学分类,主要有无机物,氟利昂和碳氢混合物三类。按物质的来源分类,有天然制冷剂和人工合成制冷剂。制冷剂的命名符号由字母“R”表示,后面的数字和字母根据制冷剂的物质...

    查看全文
展开更多