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冠亚恒温有丰富的半导体行业产品控温经验，产品覆盖光刻、刻蚀、薄膜沉积、抛光等多种过程控温。
产品包括：制冷加热循环器Chiller，低温制冷Chiller，无压缩机换热单元等，控温精度高达±0.05℃
SOLUTION
半导体制造是一个对环境要求极高的过程，许多工艺步骤对温度非常敏感。
例如，在光刻工艺中，光刻机的光学系统需要在稳定的温度环境下工作，因为温度的微小变化可能导致光路的偏差，进而影响光刻的精度。在化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）等工艺中，反应温度直接影响薄膜的质量和性能。精确的温度控制能够确保沉积的薄膜厚度均匀、成分准确，从而提高芯片的性能和良率。
FLTZ变频Chiller
—控温精度可达±0.05℃（出口温度稳态）
半导体温控装置Chiller 温度范围：-90~+100℃，主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制，司在系统中应用多种算法，实现系统快速响应、较高的控制精度。
FLTZ变频多通道Chiller
—支持单通道、双通道、三通道等多通道控温
冠亚恒温多通道半导体温控装置Chiller，主要应用于半导体生产过程工艺控温，满足刻蚀、沉积、抛光等各种工艺严苛的控温需求。
ZLTZ高效换热控温机组
—高效换热，可⾃动回收导热介质
ZLTZ控温机组与微通道反应器组合成⾼放热量控温运⽤，同流量⼯况下相对于导热油换热控温传热效率5倍以上，同时进出⼝温差⼩，温度场均匀性⾼，特别适合剧烈放热反应的应⽤；
冷冻机-工业冷冻机-高低温一体机
