无锡冠亚多台反应釜控温设备工艺说明
在化工生产中,反应釜是化工生产过程中的重要设备,反应过程中伴随有大量的吸、放热现象,具有大滞后、时变、非线性、反应机理复杂等特点。多台反应釜控温设备模糊控制是一种基于规则的语言控制,在设计中不需要建立被控对象的准确数学模型,鲁棒性强,干扰和参数变化对控制效果的影响被大大减弱,摔制效果好。
传统的PID控制是一种基于过程参数的控制方法,具有控制原理简单、稳定性好、可靠性高、参数易调整等优点,但其设计依赖于被控对象的准确数学模型,在线整定参数的能力差,而反应釜因为机理复杂、各个参数在系统反应过程中时变,不能建立准确的数学模型,不能满足系统在不同条件下对参数自整定的要求,因而采用一般的PID控制器无法实现对反应釜的准确控制。
但模糊控制器是以误差和误差变化作为输入变量,这种控制器具有模糊比例-微分控制作用,精度不太高、稳态误差较大、自适应能力有限和易产生振荡现象。预测控制是一种优化控制算法,它是通过对某一性能指标的较优来确定未来的控制作用的,具有对模型要求低、鲁棒性好、适用于数字计算机控制的优点。
由于计算机模型预测控制具有良好的跟踪性能,能有效地提高系统的稳定性和消除误差,对滞后过程有明显控制效果,更加符合工业温度控制的实际要求,从而大大提高了温度控制系统的性能。
多台反应釜控温设备总结当前温度控制系统精度差的根本原因,在此基础上采用基于预测的模糊自整定PID集成控制技术实现反应釜温度控制,其主要思想是利用系统模型的预测输出,结合常规PID的控制经验,采用模糊推理方法,对控制器算法进行改进。
多台反应釜控温设备与通常的PID控制方案相比,该方案提高了系统的鲁棒性和适应性,较好的解决了反应釜温度控制的难题。课题完成了反应釜温度控制系统的硬件电路的设计、系统软件的编译与调试,对基于预测的模糊自整定PID温度控制系统进行了仿真与实验研究,与PIU控制方法相比,控制性能更加稳定,可靠性更高,实时性、适应性、鲁棒性都显著增强,控制效果较好。
相关推荐
-
光刻工艺温度控制chiller应用案例
246光刻工艺是半导体制造中其中温度控制对于确保光刻胶的均匀性和光刻过程的稳定性影响比较大。以下是一些光刻工艺中温度控制Chiller的应用案例: 案例一:光刻胶储存和处理的温度控制 应用描述:光刻胶对温度非常敏感,其化学活性和粘度会随温度变...
查看全文 -
如何保障离心式低温工业冷冻机正常运行
488由于压缩机的种类不同,无锡冠亚低温工业冷冻机也是分为不同种类的,比如活塞式低温工业冷冻机、离心式低温工业冷冻机、风冷式低温工业冷冻机、水冷式低温工业冷冻机等,其中离心式低温工业冷冻机使用是比较多的,那么,怎么保障离心式低温工业冷冻机的平稳运行呢?...
查看全文 -
无锡冠亚-全密闭冷热一体机装置说明书
436全密闭冷热一体机装置是具有制冷、加热功能,能够让物料在反应釜中进行控温化学反应的一种设备,全密闭冷热一体机装置伴随着反应器放热、吸热的过程,是的控制温度均匀的保持在一定的温度范围内,是配套各种反应器使用的。 全密闭冷热一体机控温范围在-120-300 ℃,主...
查看全文 -
芯片温度控制中散热器特性说明
405随着电子芯片的不断发展,其电子芯片的散热技术也在不断推进,无锡冠亚芯片温度控制技术伴随芯片测试设备而不断得到推广,同时电子芯片的散热技术也需要不断注意,需要对其散热器特性了解清楚。现代的计算机芯片的发展趋势是集成化,微型化,计算机芯片技术已经成为...
查看全文
冷冻机-工业冷冻机-高低温一体机










