无锡冠亚精密冷水机压力变化的原因是什么?
无锡冠亚精密冷水机在制药、化工、实验室、工业中使用比较多,那么精密冷水机在运行中压力发生变化怎么处理呢?是什么原因导致的呢?
1、吸气压力
吸气压力低的因素:吸气压力低于正常值,其因素有制冷量不足、冷负荷量小、膨胀阀开启度小、冷凝压力低(指用毛细管系统),以及过滤器不畅通。
吸气压力高的因素:吸气压力高于正常值,其因素有制冷剂过多、制冷负荷大、膨胀阀开启度大、冷凝压力高(毛细管系统)以及压缩机效率差等。
2、排气压力
排气压力高的因素:当排气压力高于正常值时,一般有冷却介质的流量小或冷却介质温度高、制冷剂充注量过多、冷负荷大及膨胀阀开启度大等。
这些引起系统的循环流量增加,冷凝热负荷也相应增加。由于热量不能及时全部散出,引起冷凝温度上升,而所能检测到的是排气(冷凝)压力上升。在冷却介质流量低或冷却介质温度高的情况下,冷凝器的散热效率降低而使冷凝温度上升。
在冷却介质流量低或冷却介质温度高的情况下,冷凝器的散热效率降低而使冷凝温度上升。对于制冷剂充注量过多的原因,是多余的制冷剂液占据了一部分冷凝管,使冷凝面积减少,引起冷凝温度上升。
排气压力低的因素:排气压力低于正常值,其因素有压缩机效率低、制冷剂量不足、冷负荷小、膨胀阀开度小,过滤器不畅通,包括膨胀阀过滤网以及冷却介质温度低等。
在一般情况下,精密冷水机吸气压力升高,排气压力也相应上升;吸入压力下降,排气压力也相应下降。也可从吸气压力表的变化估计出排气压力的大致情况。
相关推荐
-
高精度复叠制冷快速响应与面板冷水机在半导体工艺中的应用
145在半导体产业的工艺制造环节中,温度控制的稳定性直接影响芯片的性能与良率。其中,面板冷水机作为温控设备之一,通过准确的流体温度调节,为半导体制造过程中的各类工艺提供稳定的环境支撑,成为现代半导体生产链中控温环节。
查看全文 -
如何保障离心式低温工业冷冻机正常运行
432由于压缩机的种类不同,无锡冠亚低温工业冷冻机也是分为不同种类的,比如活塞式低温工业冷冻机、离心式低温工业冷冻机、风冷式低温工业冷冻机、水冷式低温工业冷冻机等,其中离心式低温工业冷冻机使用是比较多的,那么,怎么保障离心式低温工业冷冻机的平稳运行呢?...
查看全文 -
半导体元件测试装置设计
321半导体元件测试装置是应用于半导体以及元器件行业中进行高低温测试运行的设备,无锡冠亚半导体元件测试装置利用其在制冷加热动态控温系统领域的优势,生产了半导体元件测试装置,在行业需求比较大。半导体元件测试装置系统进行低温检测时,真空低温室上的光学窗口是...
查看全文 -
工业冰箱最低可以达到多少度
439工业冰箱也被称为超低温制冷设备。通常称为工业冰柜、工业冷冻室、工业冷冻箱、低温冷冻箱。温度范围:-150℃~-20℃。工业冰箱可以分为立式和卧式,大多采用进口压缩机和风机,无氟环保致冷剂,全铜管路严密防漏,性能优良,可靠耐用。配备移动脚轮,使用方便。工业冰...
查看全文
冷冻机-工业冷冻机-高低温一体机










