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半导体 chiller 常规型

  • 温控精度±0.5℃控制蒸发温度
  • 温度范围-40℃~-15℃
  • 制冷@-35℃0.5KW~4KW
  • 制冷剂R404A可选配R507C R448
  • 电源 220V 50HZ

半导体投入大,制造工序多,为了提高产品的良品率、确保收益,需要在半导体的每个环节进行质量把控,影响产品质量的其中一个重要因素就是温度,温度的稳定性及精准度非常重要,为获得稳定可靠的产品保驾护航。

冠亚循环冷却器和水- 水热交换器为从前端到后端的整体半导体工艺流程提供支持。通过拥有超过16年的温度控制经验以及与各大zhi名主设备机台直接配套经验,我们为半导体客户提供标准产品及用户定制产品、温度控制技术的专业知识以及全球化服务,有助于满足您从铸锭到测试的半导体工艺流程中苛刻的温度要求。

型号FLTZ-002FLTZ-003FLTZ-004FLTZ-006FLTZ-008FLTZ-010FLTZ-015
FLTZ-002WFLTZ-003WFLTZ-004WFLTZ-006WFLTZ-008WFLTZ-010WFLTZ-015W
温度范围5℃~90℃
控温精度±0.05℃(出口温度稳态)
制冷量at10℃6kW8kW10kW15kW20kW25kW40kW
内循环液容积4L5L6L8L10L12L20L
膨胀罐容积10L10L15L15L20L25L35L
制冷剂R410A
载冷剂硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等  (DI温度需要控制10℃以上)
进出接口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG3/4ZG3/4ZG1ZG1
冷却水口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG1ZG1ZG1ZG1 1/8
冷却水流量at20℃1.5m³/h2m³/h2.5m³/h4m³/h4.5m³/h5.6m³/h9m³/h
⼯艺过程温度控制可根据⾃创⽆模型⾃建树算法和串级算法相结合来控制远程⽬标温度
尺寸950*380*1055950*380*1055950*380*1055980*430*1400980*430*14001080*600*15001080*600*1500

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