ZLF系列TCU温控单元

采用现有的热能（如蒸汽、冷却水及超低温液体——即“初级系统”）基础设施集成到用来控制工艺设备温度的单流体系统或二级回路中。这就完成了只有一种热传导液体流入到反应容器的夹套中（而不是直接通入蒸汽、冷却水或超低温液体）。通过运算控制整个反应过程温度。

温度过程控制原理（控制反应釜物料温度）：

2、专门设计的滞后预估器（无模型自建树算法）产生一个代替过程变量y（t）的动态信号yc（t）来作为反馈信号。对控制器产生一个e（t）信号，使控制器预判控制作用没有大的滞后，这样控制器总是能够产生一个合适的控制信号。也就是说，即使存在大滞后，这个动态信号yc（t）也能保持反馈回路正常工作.而用一般PID来控制具有显著时间滞后的过程，则控制器输出在滞后时间内由于得不到合适的反馈信号保持增长，从而导致系统响应超调大甚至使系统失控。
3、通过三点采样（物料温度点、温控系统出口温度、温控系统进口温度），通过我们公司自创无模型自建树算法和一般抗滞后串级算法相结合。